CCXI

中国宣布目标在2026年生产五台DUV光刻机，到2027年生产二十台。

DUV光刻产能对半导体制造竞争力至关重要。中国对国产芯片制造设备的生产目标直接影响全球半导体供应链，特别是依赖此类机械的先进芯片节点。这与全球半导体设备制造商和芯片生产商相关。